Спосіб приготування сонячної батареї з аморфного кремнію

Існує багато методів для аморфних кремнієвих сонячних елементів, включаючи плазмове хімічне осадження з парової фази, реактивне розпилення, тліючий розряд, випаровування електронним променем і термічне розкладання силану.
1. Метод реактивного напилення: по-перше, використовуйте інфрачервоний лазер для лазерного різання провідної скляної підкладки TCO; після лазерного скрайба виконайте ультразвукову чистку; після очищення субстрату помістіть його в спеціальне пристосування для осадження та проштовхніть у піч для попереднього нагріву; попередній нагрів Пристосування для пост-осадження вставляється у вакуумну камеру для осадження PECVD, і аморфний кремній осаджується за допомогою процесу осадження PECVD; потім зелений лазер використовується для виконання другого лазерного скрайбування на нанесеній аморфній кремнієвій підкладці, і очищення виконується після скрайбування; потім на очищену підкладку наноситься композитна плівка металевого заднього електрода за допомогою технології PVD, і шар оксиду цинку як одна з композитних плівок металевого заднього електроду наноситься на поверхню шару аморфного кремнію, а інші шари металевого заднього електрода наносяться на шарі оксиду цинку; потім за допомогою зеленого лазера виконайте третє лазерне скрайбування на підкладці з нанесеним металевим заднім електродом і очистіть його після скрайбування. Поки структура мікросхеми акумулятора сформована; після цього чіп акумулятора ламінується та упаковується, а також встановлюються розподільна коробка та провідні дроти. Нарешті, виконайте тестування продуктивності компонентів і запакуйте відповідні продукти в коробки. Залежно від розміру та технічних характеристик виготовлених фотоелектричних модулів виробничий цикл зазвичай займає від трьох до чотирьох годин.
2. Плазмовий метод хімічного осадження з парової фази: серія камер осадження використовується для формування безперервної програми виробництва для досягнення масового виробництва. У той же час аморфний кремнієвий сонячний елемент дуже тонкий, і його можна зробити багатошаровим або виготовити методом інтегральної схеми. На площині з відповідним масковим процесом одночасно можна створювати декілька комірок послідовно для отримання вищої напруги.
3. Метод тліючого розряду: кварцовий контейнер вакуумується, заповнюється силаном, розведеним воднем або аргоном, нагрівається радіочастотним джерелом живлення для іонізації силану з утворенням плазми, а плівка аморфного кремнію наноситься на нагріту підкладку вище.